电话:0512-65821886
地址:苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城
首页
MEMS芯片
MEMS器件
MEMS加工
半导体材料
新闻中心
关于我们
联系我们
菜单
网站首页
MEMS芯片
微热板
压力传感器芯片
气流传感器芯片
氮化硅薄膜窗格
相变射频开关
MEMS器件
微流控器件
热导式气体传感器器件
红外靶标器件
被动式红外投影芯片
MEMS加工
光刻
刻蚀
镀膜
键合
外延与掺杂
切割、打孔
减薄、抛光
半导体材料
衬底
光刻胶
光刻版
新闻中心
公司新闻
行业动态
关于我们
公司简介
加入我们
联系我们
搜索
首页
新闻中心
行业动态
行业动态
公司新闻
行业动态
什么是半导体材料
2021-09-22
据博研小编的了解,
半导体材料
是指电导率介于金属与绝缘体之间的材料,电导率在欧/厘米之间,一般情况下电导率随温度的升高而增大。半导体材料是制作晶体管、集成电路、电力电子器件、光电子器件的重要材料。
半导体材料市场可以分为晶圆材料和封装材料。其中,晶圆材料主要有硅片、光掩膜、光刻胶、光刻胶辅助设备、溅射靶、抛光液、其他材料。封装材料主要有层压基板、引线框架、焊线、模压化合物、底部填充料、液体密封剂、粘晶材料、锡球、晶圆级封装介质、热接口材料。其中,大硅片占比最高。
大硅片也称硅晶圆,是最主要的半导体材料,硅晶圆片的市场销售额占整个市场总销售额的32%~40%。
硅片尺寸越大,对材料和技术的要求也就越高。目前,国内硅片生产厂商技术较为薄弱,市场份额较小,多数企业以生产8英寸及以下硅片为主。
电子气体:半导体材料之“源”
电子气体在电子产品制程工艺中广泛应用于薄膜、蚀刻、掺杂等工艺,被称为半导体、平面显示等材料的“粮食”和“源”。
实际运用
制备不同的半导体器件对材料有不同的形态要求,包括单晶的切片、磨片、抛光片、薄膜等。半导体材料的不同形态要求对应不同的加工工艺。常用的材料制备工艺有提纯、单晶的制备和薄膜外延生长。
所有的半导体材料都需要对原料进行提纯,要求的纯度在6个“9”以上,最高达11个“9”以上。提纯的方法分两大类,一类是不改变材料的化学组成进行提纯,称为物理提纯;
另一类是把元素先变成化合物进行提纯,再将提纯后的化合物还原成元素,称为化学提纯。物理提纯的方法有真空蒸发、区域精制、拉晶提纯等,使用最多的是区域精制。化学提纯的主要方法有电解、络合、萃取、精馏等,使用最多的是精馏。
由于每一种方法都有一定的局限性,因此博研小编常使用几种提纯方法相结合的工艺流程以获得合格的材料。
上一篇:
详解微纳加工工艺:光刻
下一篇:
多晶硅表面微纳加工技术介绍
MEMS器件
微流控器件
热导式气体传感器器件
红外靶标器件
被动式红外投影芯片
MEMS加工
光刻
刻蚀
镀膜
键合
外延与掺杂
切割、打孔
减薄、抛光
半导体材料
衬底
光刻胶
光刻版
新闻中心
公司新闻
行业动态
关于我们
公司简介
加入我们
联系我们
MEMS器件
微流控器件
热导式气体传感器器件
红外靶标器件
被动式红外投影芯片
MEMS加工
光刻
刻蚀
镀膜
键合
外延与掺杂
切割、打孔
减薄、抛光
半导体材料
衬底
光刻胶
光刻版
新闻中心
公司新闻
行业动态
关于我们
公司简介
加入我们
联系我们
0
请您留言
苏州博研微纳科技有限公司 华北/东北/华中/西南/西北地区: 刘经理18115525358 华东华南地区: 张经理18115525318
提交
感谢留言
我们会尽快与您联系
关闭