-苏州博研微纳

主要的MEMS加工工艺大盘点

2021/08/05

据博研小编的了解，在以硅为基础的 MEMS加工工艺中 ,主要的加工工艺有腐蚀、键合、光刻、氧化、扩散、溅射等。 ①、腐蚀腐蚀是MEMS 加工的最主要的技术 ,各种硅微机械几乎都要用腐...

国内mems微纳加工技术发展面临哪些困境

2021/08/05

博研小编认为尽管 mems微纳加工技术未来前景一片光明，但如果只看眼前，国内市场现状并不如尽如人意，国产MEMS的坎一个比一个难。困境一：研发时间长，难以投产 mems微纳加工技术...

传统集成电路代工和mems代工模式的差异

2021/07/14

在人工智能的崛起威胁到流程驱动型工作岗位的同时，菲律宾呼叫中心行业希望今年能创造出多达7万个工作岗位和10亿美元的额外收入。菲律宾联络中心协会（CCAP）主席路易斯·本尼迪...

光刻加工基础

2021/07/16

MEMS代工中光刻工艺的重要性，光刻加工的重要性可以通过两种方式来理解。首先，由于集成电路制造中需要大量的光刻步骤，光刻加工通常占制造成本的30％左右。其次，光刻加工趋向...

MEMS代工的灵活性的表现有哪些？

2021/07/16

随着科学技术和人类需求的发展，MEMS代工和MEMS技术的应用变得更加多样化。传感器和执行器已广泛应用于各个领域，并已集成到许多应用中，例如汽车工业，生物医学治疗，消费电子，...

光刻加工的其他技术

2021/07/16

在光刻加工中，扫描探针光刻(SPL) 是另一组使用扫描探针在纳米级图案化到单个原子的技术，通过蚀刻掉不需要的材料，或直接将新材料写入基板上。该类别中的一些重要技术包括蘸笔...

电子束光刻加工应用和参数

2021/07/16

电子束光刻加工图案中的数字线宽与处理后的实际显影特征尺寸之间几乎总是存在差异。这是由抗蚀剂中的电子散射引起的。对于良好表征的过程，数字大小和实际大小之间通常存在固...

电子束光刻加工的三个“度”

2021/07/16

电子束光刻加工的三个度是不常被提及的功绩数字，其实就是在光刻加工中遇到的：解析度、缝合度、叠加度。常常和设备有关。解析度：电子束光刻的分辨率是可以图案化的特征的最...

光刻加工的好处

2021/07/16

特征尺寸在光刻加工中这通常称为最小特征尺寸或临界尺寸 (CD)，它是设计的最小部分。可实现的 CD 取决于您使用的光刻类型和您正在图案化的表面的拓扑结构。对齐对齐是指两层相...